Инженеры Университета Тафтса создали наноструктуры из шелка и воды, абсолютно не изменив технологию производства.

Инженеры Университета Тафтса создали наноструктуры из шелка и воды, абсолютно не изменив технологию производства. Такие структуры могут заменить токсичные материалы, которые используются, например, в тех же проводниках.

Ученые поставили себе цель создать разрешение минимум 100нм. Обычно, когда создают наноструктуру, кремниевую пластину покрывают полимерной пленкой, потом закрывают маской и в завершении отправляется в устройство, которое покрывает ее светом и электронами. После чего позитивный резист растворяется под воздействием токсических вещей, а негативный остается на покрытии пластины. В новом же варианте литографии применяется водный раствор шелка. В качестве пленки также идет шелк, как природный полимер, а вот способ дальнейшей обработки не меняется.

В итоге разрешение технологии с шелком точно такое же, как и при старой технологии с использовании каких-либо синтетических резистов.