Шелк и вода могут заменить токсичные соединения в микроэлектронике
 

Инженеры Университета Тафтса создали наноструктуры из шелка и воды, абсолютно не изменив технологию производства.

Инженеры Университета Тафтса создали наноструктуры из шелка и воды, абсолютно не изменив технологию производства. Такие структуры могут заменить токсичные материалы, которые используются, например, в тех же проводниках.

Ученые поставили себе цель создать разрешение минимум 100нм. Обычно, когда создают наноструктуру, кремниевую пластину покрывают полимерной пленкой, потом закрывают маской и в завершении отправляется в устройство, которое покрывает ее светом и электронами. После чего позитивный резист растворяется под воздействием токсических вещей, а негативный остается на покрытии пластины. В новом же варианте литографии применяется водный раствор шелка. В качестве пленки также идет шелк, как природный полимер, а вот способ дальнейшей обработки не меняется.

В итоге разрешение технологии с шелком точно такое же, как и при старой технологии с использовании каких-либо синтетических резистов.


Автор документа: uniteddare Дата публикации: 02.07.2014
Дата редактирования: 21.07.2014
Кол-во просмотров 1573


радиационно стойкие ПЗУ Миландр

Мероприятия:

12-я международная выставка информационных технологий и электроники для пассажирского транспорта и транспортной инфраструктуры
XI Специализированная выставка-форум Передовые Технологии Автоматизации. ПТА - Санкт-Петербург 2018